一般的なオプションの特殊な雰囲気と超高真空（詳細は次の通り）：

1. 真空タンク炉の不活性雰囲気制御システム
2. 反応雰囲気（H 2、CO、CO 2、H 2 S、H 2 O、CH 4&C 2 H 4、その他の雰囲気）を選択可能
3. しんくうポンプ
4. 分圧オプション
5. 排ガス燃焼トーチ（熱分解、触媒、またはプロパンガスによる燃焼）のオプション
6. 制御可能な雰囲気環境のための標準炉内の金属雰囲気ボックス
7. 標準タンク炉における加熱素子保護用炭化ケイ素ライニング

1.真空タンク炉の不活性雰囲気制御システム

GLO、LHT、HTK、HBO、HTBL及びV−L真空炉標準配置全不活性雰囲気制御システム。サイズと最高動作温度に応じて、流量計を備えた半自動制御システム、タッチスクリーンと品質流量計を備えた全自動PLC制御システムを提供することができる。

すべての真空炉には不活性雰囲気制御装置が標準装備されている。より多くの雰囲気制御装置を構成することができる。

すべての真空炉は、ロータポンプ、ルーツポンプ、拡散ポンプ、タービンポンプなどの全シリーズの真空ポンプを選択できます。場合によっては、炉を安全に使用するために真空ポンプを配置する必要があります。

2.選択可能な反応雰囲気（H 2、CO、CO 2、H 2 S、H 2 O、CH 4&C 2 H 4及びその他の雰囲気）

すべての真空炉はHなどの雰囲気を安全に配置することができる₂、CO、CO₂、H₂S、H₂O、CH₄、C₂H₄。

原則として、反応雰囲気に入る真空炉には全自動制御システムを配置する必要があり、関連配置は以下の通り：

• TP 1900またはWinCCパネルをオプションで装備可能なシーメンスS 7-300制御システム
• 窒素、アルゴンなどの不活性雰囲気の取り付けは、質量流量計によって制御することができる
• 反応雰囲気の取り付けは質量流量計で制御できる
• 反応雰囲気センサ
• 触媒排ガスによるフレア燃焼、安全な燃焼を確保
• 安全洗浄タンク
• 安全部品はSIL 2規格を満たす

3.真空ポンプ

以下に4種類の異なる真空ポンプを選択でき、異なる真空レベルに達することができる。PNEUROP標準試験方法により最終真空度を認証することができ、同時にポンプの閉状態フランジの圧力を測定することができる。真空ポンプを配置した後、マフラー炉システムが達成した最終真空度、および相応の真空度に達した時間は、顧客のサンプル材料、清潔度、炉内表面脱着率、サンプルまたは炉内に入れたその他の材料排気、真空炉とオーブンの漏洩率を含む多くの要素の影響を受けた。
工場出荷前に、カボレートゲロは真空タンク炉の漏洩率を測定する。シールを慎重に選んで、できるだけ最低の脱着速度を確保します。真空設備を組み立てる前に洗浄する必要がある。制御できない要因には、サンプル排気、実験室の清浄度、空気の湿度が含まれています。しかし、私たちが設計した真空システムは、清潔、乾燥、冷却、ボイラーの場合、お客様が規定した時間内にお客様が必要とする作業真空レベルに達することができます。また、高真空炉の炉内を不活性雰囲気でパージする必要がある。炉のドアを開ける時間をできるだけ短くして、空気が炉の中に入って汚染を引き起こすことを防止します。

ターボ分子ポンプは急速に回転するブレードとステータからなる。回転速度は毎分90,000回転を超えることができる。高速回転する動翼車を用いて気体分子に運動量を伝達し、気体に指向流を発生させて空気を抽出する。プリドロー真空ポンプを組み合わせると、高い真空度または高い真空度を達成することができる。高真空または超高真空を達成するためには、ターボ分子ポンプは現在最も使いやすい真空ポンプである。動きの遅い重粒子や分子は、動きの速い軽粒子に比べて、より速く炉の中に引き出されます。
油拡散ポンプ内部には運動部品がない。油拡散ポンプは、高速油蒸気流によってガスを除去し、ガス分子を抽出する目的である。ポンプの底部では、油が蒸気に加熱され、ポンプノズルの隙間から非常に高速で噴出され、油が凝縮した後に再加熱されて気化することができる。油拡散ポンプは急速に高真空に達することができ、一部の油分子は炉内に滞留することがあるが。

ルーツポンプは真空環境下での熱処理に適している。吸引チャンバは油潤滑を必要としない。2つの回転車は相対運動し、回転車の構造は正確で、キャビティの前とほとんど隙間がない。プレポンプと組み合わせて使用する必要があります。

ロータポンプは予備吸引真空ポンプである。これは最も一般的な真空ポンプです。1つまたは2つで使用できます。空気雰囲気下で使用することができ、その回転速度は毎分1500回転程度である。吸引室には油潤滑が必要です。双極ポンプは粗真空を実現することができる。

ユーザの要求に応じて、特殊な真空システムを提供する。例えば反応雰囲気を排出する必要があり、これらの応用には真空システムが潤滑油や特殊な潤滑油を含有してはならないことが必要である。ダイヤフラムポンプ、低温ポンプ、イオン吸気ポンプなどの特殊な真空ポンプを提供することができます。

4.分圧オプション

分圧の定義は、炉内の安定した圧力が大気圧より低く、持続する気流である。分圧には、質量流量制御器とシーメンスPLCと調整可能な排気弁を備えなければならない。オペレータはPLCを介してガス流量と圧力を設定することができる。質量流量制御器はガス流量を制御する。2段ロータポンプの前面にある空気圧バルブは、炉内で必要な真空圧力を維持するためのものである。圧力は10〜1000 mbarの間に設定することができる。必要に応じて、他のタイプの真空ポンプを分圧制御に使用して、より低い分圧値を得ることができます。一般に、ガスの分圧制御には、1段または2段のロータポンプが使用される。

配自動制御システムの分圧装置の概略図。このソフトウェアは、熱処理中に衡定された真空圧力を維持するために、空気圧ボールバルブの開角度を調整することができる。オペレータはPLCにより分圧の圧力及びガス流量を個別に設定することができる。

5.排ガス燃焼トーチ（熱分解、触媒またはプロパンガスによる燃焼）オプション

ほとんどのストーブは、複数のタイプの排ガス燃焼器ソリューションを選択することができます。真空チャンバー炉では、最も安全な排気ガス処理はメタンまたはプロパン炎を伴う燃焼促進トーチである。有機物を含む排ガスが配管に凝結しないように、炉とフレアの間に加熱された排ガス管を使用することをお勧めします。排気ガス配管のメンテナンス時間を削減し、生産効率を高めることができる。

6.制御可能な雰囲気環境のための標準炉内の金属雰囲気ボックス

非気密のタンク室内炉では、不活性雰囲気を通す必要がある場合は、不活性ガスを炉内に通すことができますが、低酸素値にはなりません。最高温度700°Cの標準HTMAオーブンでは、酸素含有量を50 ppmに下げることができる。

オーブンには気密全スリット溶接内腔、2つのフロート付き流量計と一方向排気弁がある。大気圧下では、最高温度は1150°Cに達することができ、標準的なCWFとGPCボックス室式炉のための気密金属雰囲気ボックスを提供することができる。フロント開口部を介して熱間シールされ、ガスの出入り口は雰囲気ボックスの正面にある。酸素含有量は30 ppmまで低くてもよい。雰囲気箱は箱型炉と一緒に注文しなければならない。箱型炉は改造が必要であり、空気箱を入れずに単独で使用することもできるからだ。

別の金属雰囲気カセットは、標準的なCWFおよびGPC炉に使用できる深い台座の上部の砂シールに位置する浅い可動トップカバーを有する。フロントエンドに取り付けられたガス入口/出口は、ストーブドアのスロットを通って接続されています。雰囲気箱は箱型炉と一緒に注文しなければならない。箱型炉は改造が必要であり、空気箱を入れずに単独で使用することもできるからだ。

7.標準タンク炉における加熱素子保護用炭化ケイ素ライニング

次の図は、試料中の揮発性雰囲気汚染から加熱素子を保護するための標準炉内の炭化ケイ素ライニングプレートです。